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設(shè)備簡介

MOC磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)是一種雙夾具門單腔體大型磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)，可鍍面積10.65平方米，每個(gè)門配有一個(gè)工件架，雙門交替工作。

設(shè)備采用單質(zhì)靶材氬氣環(huán)境下濺射成膜后再在ICP射頻等離子體區(qū)化合成金屬化合物膜的成膜方式，能夠在最大程度上加快介質(zhì)膜的沉淀速度，大幅提升鍍膜生產(chǎn)效率。

設(shè)備配備鈮、硅等靶材，可在膜片、復(fù)合板、玻璃等2D和3D素材上鍍制Nb205、SiO2、Si3N4等膜層，完成AR、超硬AR、顏色膜等光學(xué)類膜系的鍍制，并且AF膜可同輪完成。

設(shè)備可用于手機(jī)后蓋彩色及漸變色裝飾膜、車載顯示屏、手機(jī)攝像頭蓋板、筆電、工控等顯示屏減反射膜大規(guī)模鍍膜生產(chǎn)，也適用于傳統(tǒng)精密光學(xué)濾光片、VR、AR等現(xiàn)代智能電子產(chǎn)品光學(xué)元件的鍍膜。  

可鍍面積（公轉(zhuǎn)）和生產(chǎn)節(jié)拍