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科研院所PVD實(shí)驗(yàn)設(shè)備
專為科研院所設(shè)計(jì)開發(fā)的一款多功能PVD鍍膜設(shè)備,集陰極電弧、磁控濺射、離子源、燈絲、偏壓等多種鍍膜技術(shù)于一體,結(jié)合智能擋板和獨(dú)立公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架,應(yīng)用靈活,非常適用于科研人員靈活的開發(fā)各種涂層。
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產(chǎn)品詳情
科研院所PVD實(shí)驗(yàn)設(shè)備

設(shè)備簡介

專為科研院所設(shè)計(jì)開發(fā)的多功能PVD鍍膜設(shè)備,可選配陰極電弧、磁控濺射、離子源、電子槍蒸發(fā)、燈絲、偏壓等多種鍍膜技術(shù),結(jié)合智能擋板和獨(dú)立公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架,應(yīng)用靈活,非常適用于科研人員靈活的開發(fā)各種涂層。

設(shè)備參數(shù)

真空室尺寸

Ф400×H450

Ф800×H800

Ф1000×H1200

真空室結(jié)構(gòu)

立式前開門結(jié)構(gòu)、后置抽氣系統(tǒng)

電源類型

脈沖偏壓電源、直流磁控電源、中頻磁電源;多弧直流電源;離子源電源(可根據(jù)客戶要求實(shí)配不同電源)

真空技術(shù)指標(biāo)

極限壓強(qiáng):5.0×10-5Pa;抽速:從大氣抽至5.0X10-4Pa,30分鐘;壓升率:≤0.5Pa/h

磁控靶類型

陰極電弧,平面磁控靶,圓柱形磁控靶,非平衡磁控靶(可根據(jù)客戶要求實(shí)配)

蒸發(fā)類型

電子束蒸發(fā)源、電阻蒸發(fā)源(可根據(jù)客戶要求實(shí)配)

控制方式

PLC+工控機(jī)+觸摸屏操作

備注

具體配置、大小均可根據(jù)客戶的要求進(jìn)行設(shè)計(jì)

 

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